Ambiente de sala limpa classe 100. Os principais equipamentos dentro da sala limpa são:
- 2 equipamentos de Litografia por escrita a laser com resolução de 1 μm.
- Sistema compacto para RIECP, CVD e PECV.
- Deposição de filmes metálicos por evaporação térmica (resolução 3 nm).
- Deposição de filmes finos (atomic layer deposition – ALD).
- Corrosão a plasma (RIE) em ambiente de vácuo ou atmosfera de vários gases.
- Recobrimento tipo spin coating com rotação até 10.000 rpm.
- Microscópio óptico binocular com imageamento em campo escuro e fotoluminescência.
- 2 Capelas químicas de exaustão: uma para solventes e outra para ácidos.
LCPNano - Laboratório de Caracterização e Processamento da Nanomateriais da UFMG
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