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LCPNANO

Espaço: Processamento - Equipamentos

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Forno OTF-1200X

OTF-1200X

Temperatura máxia 1200°C, taxa de aquecimento máxima de 10°C/min, pressão positiva máxima 3 psi (flange).

LCPNano - Laboratório de Caracterização e Processamento da Nanomateriais da UFMG
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