Espaço: Processamento - Equipamentos

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Forno OTF-1200X

OTF-1200X

Temperatura máxima 1200°C, taxa de aquecimento máxima de 10°C/min, pressão positiva máxima 3 psi (flange).

LCPNano - Laboratório de Caracterização e Processamento da Nanomateriais da UFMG
Av. Antônio Carlos, 6627 - Pampulha / CEP: 31270-901- Belo Horizonte, MG
Instituto de Ciências Exatas (ICEx), Departamento de Física (DF), Sala 4158
Telefone: (31) 3409-3396
E-mail: lcpnano.ufmg@gmail.com